磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
50390062
450000
清华大学
CN-NSFC
2003-04-30
CHN
重大项目
雒建斌
2007-03-31
【中文摘要】本项目研究磁头、磁盘的润滑和超薄保护膜的制备方法,可望在理论上揭示出高速运动表面的润滑行为和规律、超薄保护膜的生长面理,在技术上实现磁头、磁盘表面的防污染润滑和连续、均匀、致密超薄膜的制备技术和方法。【结题摘要】主要针对硬盘中的表面改性展开研究。包括磁盘表面润滑分子膜的制备与迁移特性研究、磁头表面超薄固体膜的制备技术与特性研究等。在课题研究中,成功地制备出抗湿特性优良、结合力强的磁头表面改性分子膜,将硬盘起动静摩擦力降低了1倍,并提高了磁头的抗污染能力;采用分子动力学模拟手段,研究磁盘表面PFPE润滑分子的静态和动态特性,揭示出壁面作用、端基极性与分子膜稳定性之间的关系。在超薄固体膜方面,完成了磁过滤阴极弧沉积系统,并结合使用微波-ECR等离子体增强沉积等技术,制备出超薄(<2 nm)DLC膜、掺杂DLC和SiNx薄膜,建立了制备参数同薄膜化学组成、微观结构和力学及摩擦学性能间的关系,并还使用模拟手段探讨了超薄DLC薄膜的生长机理。建立了荧光纳米颗粒观测系统,用其研究流体、纳米颗粒及壁面间的相互作用。参编英文专著(1章),撰写英文专著1本(待出版)。已发表论文48篇,其中26篇被SCI收录。获发明专利5项。获教育部科技进步奖一等奖1项。作大会主题报告(Keynote Speech)4次,特邀报告(Invited Speech)7次。